證券時報記者 李曼寧
因涉及“光刻技術”誤導性陳述,蘇大維格正被追究責任。10月12日夜間,蘇大維格(300331)公布深交所關注函,企業在互動易平臺對相關“光刻技術”有關回應遭受新聞媒體和投資者普遍懷疑,從而引起股票價格大幅波動,因涉嫌存有與事實不符、有誤、不全面情況及誤導性陳述,銷售市場性質惡劣,交易中心將會對蘇大維格以及相關違反規定被告方運行政紀處分程序流程。
此“光刻技術”非彼“光刻技術”的誤導性陳述起源于上市公司在互動易平臺的一系列描述。“企業光刻技術并實現向國內領頭芯片公司銷售業務,并已經實現向日本、韓、非洲等國出入口”、“集團公司已關注到納米壓印光刻技術在集成電路芯片和芯片生產行業具有取代傳統光刻技術的使用發展潛力,并且在積極拓展”,蘇大維格9月14日中午的上述表明,立即點燃熱點板塊。
當天中午開盤后,蘇大維格股票價格即獲大幅拉升,并奪得20%股票漲停收在33.12元/股,當日成交量做到15.55億人民幣。
9月15日一早,深圳交易所就向蘇大維格下達關注函,要求其補充披露所生產光刻設備的實際種類、核心客戶及下游用途等難題,并進一步提醒相關風險。
當日夜間,蘇大維格公布了線上半年度報業績說明會會議紀要,目前對光刻設備難題有一定的回復。公告顯示,企業高端智能裝備包含直寫光刻技術、3D光刻技術、投射/掃描儀光刻技術、納米壓印光刻設備等,一部分直寫光刻設備已向國內外高校及科研單位、國內公司等市場銷售。目前,企業光刻設備營銷額比較有限,一部分主要用途離國際領先水平具有一定差別,需要持續的研發投入。
更多業務流程小細節即在問詢函回復中才解開。10月8日夜間,蘇大維格詳盡回應了有關問題。
據了解,光刻工藝是當代半導體材料、顯示板、光電材料等領域的產品生產過程中必不可少的工藝流程之一。從曝光方法上,光刻技術可分為掩膜光刻技術(在運行中均需要用到掩模版),包含觸碰/達到式光刻技術,投影式光刻技術等;以及無掩膜光刻技術,即直寫光刻技術,包含離子束光刻技術、激光直寫光刻技術、激光器立即成像設備等。半導體材料及平板顯示器生產制造普遍使用“直寫光刻技術制做掩膜+投射光刻技術快速復制”的工藝流程。
蘇大維格直言,一般所指的光刻機也是有掩膜光刻技術里的投影式光刻技術,與企業生產的激光直寫光刻技術不屬于同一技術方案。公司自2001年上下開始研發各種光刻設備,包含激光直寫光刻技術、納米壓印設施等,上述情況機器設備主要運用于微納光學產品與衍射光學元器件生產制造,企業生產的光刻設備現階段不屬于集成電路芯片行業產品的生產制造。
除此之外,蘇大維格開發生產的激光直寫光刻設備目前主要是自購,企業對外銷售的額度比較小,2022年完成對外開放銷售額約770.93萬余元,2023年上半年度對外開放銷售額約2177.27萬余元。
就公司光刻設備是否能直接用于芯片開發及生產制造,蘇大維格表明,企業光刻設備現階段不屬于集成電路芯片行業產品的生產制造,這一部分市場被龍頭企業企業核心和壟斷性。企業光刻設備關鍵為自用以各種微納光學產品與衍射光學元器件生產制造,對外開放銷售額比較小,外部客戶購置主要運用于有關領域的研發、研發和微納光學材料及生產制造。企業激光直寫光刻設備在最少線距、線距勻稱度、網格圖精密度、可靠性等關鍵技術主要參數與同行業龍頭企業對比存在較大差距。
在監管咨詢下,蘇大維格在回復函中也進行了道歉。公司證券單位在回復有關互動易問題的時候,直接用了“光刻技術”、“領頭芯片企業”等可能會引起誤解的描述,無法兼顧到部分投資者可能會對光刻技術的技術路線、相關技術的實際主要用途等狀況不太了解,未詳細描述企業光刻設備的實際種類,公司主要的應用范圍,與龍頭企業之間的差距,以及用戶適用范圍等相關信息;也未說明各種設備收入占企業收入比例比較低,未充分提醒相關風險。對于此事,公司及證劵單位誠摯給投資者深表歉意,并把積極主動吸取教訓,進一步完善管理制度和流程等。
此次問詢函回應公布之時,蘇大維格還發布接到證監會的立案通知。因蘇大維格因涉嫌信息披露違法違規,證監會決定將蘇大維格立案查處。
蘇大維格表明,立案查處期內,企業將積極配合中國證監會的專項調查,并嚴格按照監管政策履行信息披露義務。現階段,公司各項經營活動順利開展。
二級市場上,蘇大維格最近股票價格震蕩下跌,市場價24.82元/股,已跌回上述情況“光刻技術”定義歡樂前水平。
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